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電離輻射來源與防護(hù)

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　　1．電離輻射來源

　　凡能引起物質(zhì)電離的各種輻射稱為電離輻射。其中α、β等帶電粒子都能直接使物質(zhì)電離，稱為直接電離輻射；τ光子、中子等非帶電粒子，先作用于物質(zhì)產(chǎn)生高速電子，繼而由這些高速電子使物質(zhì)電離，稱為非直接電離輻射。能產(chǎn)生直接或非直接電離輻射的物質(zhì)或裝置稱為電離輻射源，如各種天然放射性核素、人工放射性核素和x線機(jī)等。

　　2．電離輻射的防護(hù)

　　電離輻射的防護(hù)，主要是控制輻射源的質(zhì)和量。電離輻射的防護(hù)分為外照射防護(hù)和內(nèi)照射防護(hù)。外照射防護(hù)的基本方法有時(shí)間防護(hù)、距離防護(hù)和屏蔽防護(hù)，通稱“外防護(hù)三原則”。內(nèi)照射防護(hù)的基本防護(hù)方法有圍封隔離、除污保潔和個(gè)人防護(hù)等綜合性防護(hù)措施。

責(zé)任編輯：memo

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發(fā)布：2007-07-30 12:00    編輯：泛普軟件 · xiaona    [打印此頁]    [關(guān)閉]
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